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中國(guó)企業(yè)培訓(xùn)講師
比較應(yīng)用技術(shù)和方法
 
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課程描述INTRODUCTION

比較應(yīng)用技術(shù)和方法

· 培訓(xùn)經(jīng)理· 人事經(jīng)理· 人事總監(jiān)

培訓(xùn)講師:    課程價(jià)格:¥元/人    培訓(xùn)天數(shù):2天   

日程安排SCHEDULE

課程大綱Syllabus

培訓(xùn)目標(biāo)
為了檢定某總體的特性利用樣本數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)
對(duì)某總體設(shè)定的假設(shè)檢驗(yàn)的判定步驟
多個(gè)總體設(shè)定的假設(shè)檢驗(yàn)的判定步驟
使用Minitab來進(jìn)行比較分析,得出結(jié)果變得方便容易

課程大綱
一概述
1.為什么要學(xué)習(xí)比較分析
2.什么是比較分析
3.比較分析的流程圖
二假設(shè)檢驗(yàn)
1.假設(shè)檢驗(yàn)問題
2.假設(shè)檢驗(yàn)的基本步驟
3.P-值另一個(gè)判斷準(zhǔn)則

三單個(gè)正態(tài)均值μ的u檢驗(yàn)(s已知)
1.單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s已知)
2.單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s已知)實(shí)例分析
3.課堂練習(xí)一——三極管的放大倍數(shù)是否降低檢驗(yàn)

四單個(gè)正態(tài)均值μ的t檢驗(yàn)(s未知)
1.單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s未知)
2.單個(gè)正態(tài)均值μ的假設(shè)檢驗(yàn)(s未知)實(shí)例分析
3.課堂練習(xí)二——硅片用化學(xué)品的儲(chǔ)存期限檢驗(yàn)
4.應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)

五單個(gè)正態(tài)方差s2的c2檢驗(yàn)
1.單個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)
2.單個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3.課堂練習(xí)三——等離子體刻蝕器的合格性檢驗(yàn)

六兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的u檢驗(yàn)(s已知)
原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域

七兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的t檢驗(yàn)(s1=s2,s未知)
1.原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域
2.兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的檢驗(yàn)(s1=s2,s未知)實(shí)例分析
3.課堂練習(xí)四——兩臺(tái)光刻機(jī)工藝的線寬均值有無(wú)顯著差異
4.應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)

八兩個(gè)正態(tài)總體均值μ的t檢驗(yàn)(s11s2,s未知)
原假設(shè)、備擇假設(shè)、檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)量、拒絕域

九兩個(gè)正態(tài)方差比較的F檢驗(yàn)
1.兩個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)
2.兩個(gè)正態(tài)方差s2的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3.課堂練習(xí)五——Fab3LIS05光刻機(jī)上線檢驗(yàn)
4.應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)

十成對(duì)數(shù)據(jù)比較
1.成對(duì)數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)
2.成對(duì)數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
3.成對(duì)數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)二種方法的比較與分析
4.課堂練習(xí)六——設(shè)備做保養(yǎng)前后有無(wú)顯著改善檢驗(yàn)
5.應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)

十一多組數(shù)據(jù)比較
1.多組數(shù)據(jù)的假設(shè)檢驗(yàn)實(shí)例分析
2.課堂練習(xí)七——多臺(tái)設(shè)備的工藝比較有無(wú)顯著異常檢驗(yàn)
3.應(yīng)用Minitab進(jìn)行實(shí)例分析的操作步驟與評(píng)判標(biāo)準(zhǔn)

十二練習(xí)
1.確定C2F4流率對(duì)刻蝕硅片的均勻性是否有影響檢驗(yàn)
2.兩臺(tái)用來充裝的機(jī)器凈容量均值檢驗(yàn)
3.等離子體刻蝕器的合格性試驗(yàn)
4.制鞋材料壽命長(zhǎng)短的檢驗(yàn)實(shí)驗(yàn)

十三微電子有關(guān)比較*成果閱讀材料
1.樣本與置信區(qū)間
2.獨(dú)立性問題探討
3.Box-CoxTransformations問題
4.非參數(shù)統(tǒng)計(jì)方法


轉(zhuǎn)載:http://santuchuan.cn/gkk_detail/11133.html

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    參加課程:比較應(yīng)用技術(shù)和方法

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